Lêer:Chemical Vapor Deposition Setup.jpg
Grootte van hierdie voorskou: 800 × 600 piksels. Ander resolusies: 320 × 240 piksels | 640 × 480 piksels | 1 024 × 768 piksels | 1 280 × 960 piksels | 2 560 × 1 920 piksels | 3 264 × 2 448 piksels.
Oorspronklike lêer (3 264 × 2 448 piksels, lêergrootte: 2,03 MG, MIME-tipe: image/jpeg)
Opsomming
| Beskrywing |
English: CVD is used for synthesizing materials in a controlled manner. Here is a 3-zone furnace with the requisite gas lines to transport the gas. |
| Datum | |
| Bron | Eie werk |
| Outeur | Aksy88 |
Lisensiëring
Ek, die outeursreghouer van hierdie werk, publiseer dit onder die volgende lisensie:
This file is licensed under the Creative Commons Attribution-Share Alike 4.0 International license.
- U is vry:
- om te deel – die werk kopieer, versprei en deurgee
- om te hermeng – om die werk aan te pas
- Onder die volgende voorwaardes:
- naamsvermelding – U moet die nodige krediet gee, 'n skakel na die lisensie verskaf en aandui of daar veranderinge aangebring is. U mag dit op enige redelike manier doen, maar nie op enige manier wat daarop dui dat die lisensiegewer u of u gebruik onderskryf nie.
- insgelyks – As u die materiaal hermix, transformeer of voortbou, moet u u bydraes versprei onder die dieselfde of versoenbare lisensie as die oorspronklike.
Lêergeskiedenis
Klik op die datum/tyd om te sien hoe die lêer destyds gelyk het.
| Datum/Tyd | Duimnael | Dimensies | Gebruiker | Opmerking | |
|---|---|---|---|---|---|
| huidig | 17:26, 21 Oktober 2016 | | 3 264 × 2 448 (2,03 MG) | Aksy88 | User created page with UploadWizard |
Lêergebruik
Die volgende bladsy gebruik dié lêer:
